上海依肯机械设备有限公司
主营产品:乳化机,高效高剪切分散乳化机,间歇式乳化机,管线式乳化机,胶体磨,高剪切胶
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  • 产品展示
产品名称: 粉底研磨分散机
产品编号: 79
产品商标: IKN
产品规格: CMSD2000
参考价格: 198567
更新日期: 2024/4/1 13:56:11
被阅次数: 1412次
 
  • 详细说明
粉底研磨分散机,粉底研磨机,德国粉底研磨分散机,进口粉底研磨分散机,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物

粉底

http://v.youku.com/v_show/id_XNjIyOTUyNzI4.html  粉底的研磨分散   粉体和酒精1:1 亚

 

http://v.youku.com/v_show/id_XNjIyOTUzMzg4.html   粉底的研磨分散  粉体:水1:2

底是妆容的基础,粉状质地的粉底是*常见的,涂在脸上显得轻柔自然,是日常妆的*佳选择。一般有粉底液、粉饼装与散粉装三种。进行化妆时,人们总不忘给自己打一层粉底,因此,在某种程度上说,粉底是女人妆容的基础,如何打好这层基础,那就得对照于你的肤色了。任何颜色的粉底在选用的时候都不能脱离本身肤色,而试用也*好是在脸部皮肤上。

难点是如何研磨粉底的固体颗粒变小

的细化作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。 

研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出*终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

 

设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件: PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理
进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

胶体磨

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMD 2000/5

1000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMD 2000/10

200

4,200

23

22

DN80/DN65

CMD 2000/20

5000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMD 2000/30

8000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到*大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度,稠度和*终产品的要求。



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